第二百九十九章 摩尔定律你听说过没有（3/4）

光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。

光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光线照射下会发生反应，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。

随后，再进行蚀刻、离子注入、封装等操作，一枚芯片就制作完成了。

光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在不同波长光线作用下的变化，机理十分复杂。

徐云是知道这些概念的。他原本就是物理系的学生，枫林研究所聘请他的老师前来参与这个项目，就是因为其中涉及到一些光学方面的问题。他在项目组里耳濡目染了这么久，对于这些问题自然是非常了解的。

听到高凡的问题，徐云也只能把心里那些杂念抛开，认真地答道：“我们现在研究的重点，就是g线光刻胶，这也是目前应用最广泛的。

“i线光刻胶这方面，毕主任在实验室会议上提过几次，让大家有时间做一些积累，不过目前条件还不成熟。再至于说krf光刻胶，好像国外也刚刚开始研究吧？”

“你说i线光刻胶的条件不成熟，是指什么？”高凡问道。

徐云道：“不是我说的，而是毕主任说的。现在国内根本就没有使用i线光源的光刻机，国外也不多，研究i线光刻胶，是不是有些操之过急了？”